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靶材的性能要求與制備工藝

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靶材的性能要求與制備工藝

發布日期:2018-09-04 作者: 點擊:

    随着電子信息産業的飛速發展,薄膜科學應用日益廣泛。濺射法是制備薄膜材料的主要技術之一,濺射沉積薄膜的源材料即為靶材。用靶材濺射沉積的薄膜緻密度高,附着性好。靶材的性能要求與制備工藝看一下2019年马会全年资料為我們介紹。

靶材.png

    【靶材的性能要求與制備工藝】


    1、靶材的性能要求


    靶材制約着濺鍍薄膜的物理、力學性能,影響鍍膜質量,因而靶材質量評價較為嚴格,主要應滿足如下要求;


    1)雜質含量低,純度高。靶材的純度影響薄膜的均勻性。


    2)高緻密度。高緻密度靶材具有導電、導熱性好、強度高等優點,使用這種靶材鍍膜,濺射功率小,成膜速率高,薄膜不易開裂,靶材使用壽命長,而且濺鍍薄膜的電阻率低,透光率高。


    3)成分與組織結構均勻。靶材成分均勻是鍍膜質量穩定的重要保證。


    4)晶粒尺寸細小。靶的晶粒尺寸越細小,濺鍍薄膜的厚度分布越均勻,濺射速率越快。正因為靶材在性能上有上述諸多特殊要求,導緻其制備工藝較為複雜。


    2、靶材的制備工藝


    目前制備靶材的方法主要有鑄造法和粉末冶金法。


    鑄造法;将一定成分配比的合金原料熔煉,再将合金熔液澆注于模具中,形成鑄錠,最後經機械加工制成靶材。鑄造法在真空中熔煉、鑄造。常用的熔煉方法有真空感應熔煉、真空電弧熔煉和真空電子轟擊熔煉等。其優點是靶材雜質含量(特别是氣體雜質含量)低,密度高,可大型化;缺點是對熔點和密度相差較大的兩種或兩種以上金屬,普通熔煉法難以獲得成分均勻的合金靶材。


    粉末冶金法;将一定成分配比的合金原料熔煉,澆注成鑄錠後再粉碎,将粉碎形成的粉末經等靜壓成形,再高溫燒結,最終形成靶材。粉末冶金法的優點是靶材成分均勻;缺點是密度低,雜質含量高等。常用的粉末冶金工藝包括冷壓、真空熱壓和熱等靜壓等。


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